智造号
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07:44193nm ArF 准分子激光是半导体干式与浸润式光刻的核心光源，高重频脉冲辐照会对光学基材提出严苛的激光耐久、光学均匀性与波前稳定性要求。德国 Hellma Materials LD-A 级氟化钙（CaF₂）单晶，承袭原 Schott Lithotec 光刻晶体技术，专为 193nm ArF 光刻机投影物镜开发，具备较低色心生成速率、良好深紫外透过与低应力双折射特性；元件采用 0.5mm 保护倒角工艺，支持外形尺寸按需定制，是先进制程 DUV 光刻物镜系统的关键光学基材。
一、 材料等级定义与晶体基础特性
LD-A（Lithotec-DUV Grade A）为 Hellma 氟化钙体系中 193nm 波段对应高激光耐久等级，面向高能量、高重复频率 ArF 激光长期连续辐照工况，与 LD-B/C/D 等级形成梯度划分。LD-A 晶体采用 6N 超高纯合成 CaF₂原料，金属杂质与氢氧根杂质控制至 ppb 级别，从源头抑制激光辐照诱发的色心缺陷，避免 193nm 透过率衰减与成像波前畸变。
晶体标准取向优选光刻通用 <111> 晶向，也可根据物镜光学设计需求定制 < 100 > 晶向。材料透光区间覆盖 130nm～8μm，193nm 处 10mm 厚度内部透过率＞99.7%，折射率 n₁₉₃nm≈1.434，超低色散特性，能够有效校正光刻物镜色差；折射率均匀性≤0.5 ppm，应力双折射≤0.5 nm/cm，保障物镜长时间工作下的成像精度。
二、 元件工艺：0.5mm 保护倒角与定制化加工
光刻物镜用 CaF₂元件的边缘处理直接影响装配可靠性与光路杂散光水平。氟化钙晶体质地偏软，锐边极易产生微裂纹，在加工、清洗、装配与运输阶段，微小磕碰会引发崩边，裂纹在激光持续辐照下进一步扩展，造成元件失效与光路颗粒污染。
0.5mm 保护倒角可去除棱边尖锐刃口，释放边缘集中应力，降低崩边风险；同时抑制边缘衍射与杂散光散射，避免鬼影噪声降低光刻成像对比度。该倒角尺寸经过光刻物镜工程验证，在实现边缘防护的前提下，最大限度保留有效通光孔径，不干涉物镜光学设计。
产品支持尺寸定制，可提供圆形透镜毛坯、平板窗口、可按图纸定制直径、厚度、面型适配不同规格 ArF 投影物镜与照明光路组件。每一件元件出厂附带原厂完整检测证书，包含透过率、双折射、折射率均匀性、激光耐久检测数据，满足半导体行业来料审核要求。
三、 193nm ArF 光刻应用优势
在浸润式与干式 193nm ArF 光刻机物镜中，光学元件长期承受高重频准分子脉冲激光照射，普通氟化钙材料易快速形成色心，引起透过率下降、波前漂移，缩短镜头使用寿命。LD-A 等级晶体核心优势体现在抗激光辐照稳定性，长期脉冲辐照下色心增长速率低，保证物镜在整机生命周期内成像稳定性。
CaF₂材料具备低非线性折射率与适配的热物理参数，在激光热负载下波前畸变量可控，适配高 NA 浸润式光刻物镜的严苛指标。该材料被广泛应用于 DUV 光刻设备的投影物镜、照明光束传输组件。
四、 结语
Hellma LD-A 级 CaF₂氟化钙单晶，是面向 193nm ArF 光刻机物镜的 DUV 光学晶体。材料具备良好激光耐久性能、稳定光学均匀性，搭配 0.5mm 精密保护倒角与灵活的定制化加工能力，可满足 DUV 光刻物镜对成像精度、长期稳定性与装配可靠性的多重要求，是深紫外光刻光学系统的核心基材。
