智造号
SUSS MicroTec是半导体与微纳加工领域设备厂商，依托多年光刻工艺技术积累，推出LabSpin6台式旋涂设备。该机型面向实验室研发、工艺摸索、样品试制及教学场景打造，主打小型化、易操作与稳定的涂布表现，可满足光刻胶、聚合物材料等多种薄膜制备需求，广泛应用于微电子、MEMS、光学材料等相关研究领域。
基材适配
LabSpin6针对中小型晶圆与各类片状基板设计，可兼容常规尺寸晶圆及异形碎片基材，搭配多款真空卡盘，能够稳固夹持不同规格样品，保障旋涂过程中基材不发生偏移。整机采用紧凑型台式结构，机身占用空间小，适配洁净室、实验室等场地布局。设备腔体采用易清洁材质制作，可拆卸式工艺腔体便于更换试剂、清理残留物料，减少不同药剂混用带来的影响。
工艺控制
设备搭载成熟调速控制系统，转速调节区间覆盖常规工艺需求，转速控制平稳，可实现低速铺料、高速甩膜的完整工艺流程。系统支持多组工艺配方存储，操作人员可提前设置转速、时长、加速度等参数，调用即可重复执行相同工艺，保障实验数据的一致性。整机运行振动低，运转噪音小，符合实验室安静作业的环境要求。
功能配置
设备基础功能齐全，集成基础涂布与防边厚处理相关结构，优化基片边缘成膜效果。机身布局合理，滴液位置可按需调整，适配不同黏度涂料的涂布工艺。同时支持选配自动滴胶、辅助定位等配件，可根据实验需求逐步升级配置，从基础手动操作向半自动化作业过渡，适配不同阶段的研发使用要求。设备防护结构完整，运行状态直观，日常检查与维护流程简单。
技术参数
| 参数项目 | 技术指标 |
| 设备类型 | 台式实验室旋涂机 |
| 适配基材 | 常规晶圆、片状基板、样品碎片 |
| 控制方式 | 配方存储、参数可编程 |
| 结构特点 | 体积紧凑、腔体可拆卸易清洁 |
应用范围
LabSpin6主要用于高校实验室工艺教学、科研机构材料研发、企业新品工艺验证等场景，可完成光刻胶涂布、功能聚合物薄膜制备、光学涂层旋涂等工序，是微纳加工、半导体研发、柔性电子等领域基础实验的常用设备。
